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曹则贤 简介
 
简 历: 男,1966年3月出生,1987年毕业于中国科技大学物理系,1997年获德国 Kaiserslautern 大学物理学博士学位。1997-1998在德国IFOS研究所作博士后。1998年入选中科院"百人计划"。现为中国科学院物理所研究员,课题组长;中国科技大学物理系兼职教授,《The Open Surface Science Journal》杂志编辑,重大研究计划首席科学家,《物理》杂志专栏撰稿人。
主要研究方向: 薄膜生长技术、过程与机理;新材料探索; 表面的电子能谱扫描探针谱分析;低温等离子体,凝聚态表面;微结构与量子力学。

目前从事工作包括: 复合纳米硅体系的发光;宽禁带化合物半导体设计;多晶硅低温生长;贵金属氮化物热稳定性设计与合成;电流变液机理;应力驱动微结构的自组织;微重力现象等
过去的主要工作
及获得的成果:
长期从事低能离子同固体表面的相互作用,薄膜生长机理和表面电子谱学与扫描探针谱学方面的研究以及超硬透明导电材料探索.首次给出离子轰击诱导深度轮廓的演化方程,发展了一套俄歇谱溅射深度轮廓技术。系统研究了(等)离子束辅助生长参数对轻元素化合物薄膜生长过程和性质的影响,在宽禁带半导体材料如 SiCN, AlCN, BCN的设计方面获得一批成果。 率先实现了纳米硅复合薄膜体系的可见光全谱发光,目前已把纳米硅颗粒的尺寸和密度都推至物理极限,最小波长为428nm, 外量子效率超过3%,衰减时间小于纳秒。 自行设计研制了多功能UHV镀膜系统,电子回旋共振波等离子体薄膜生长系统和脉冲电子束薄膜沉积系统。 利用曲面上应力驱动自组织首次在微观世界里实现Fibonacci Spiral Patterns, 并实现了手性的控制;研究了球面上三角排布到迷宫式花样间的相变;研究了旋转椭球面上应力花样对形状因子、皮厚和过载的依赖关系,再现了大自然中瓜果表面的形貌,为生物形貌多样性提供了一个普适的解释。在贵金属氮化物薄膜中首次发现微米级五次对称的浮雕式形貌,并获得了在200K温区内为零的电阻温度系数。

在PRL,APL, PNAS,Adv. Mat.,Science等国际重要杂志上撰写研究论文60余篇,另撰写中文物理学教育/随感50多篇,中英文专著章节、百科条目若干。现在在《物理》杂志开设“物理学咬文嚼字”专栏。开设过系列讲座“经典力学-从思想起源到现代进展(2006,2007)”,“一个初学者关于量子力学的思考 (2008)”,“热力学与统计物理:their conceptual origins and modern advancement (2009)"。 2010年拟开设 “从电磁学到量子电动力学”。


详情参见网页:   http://surface.iphy.ac.cn/sf03/index.htm
目前的研究课题及展望: 中国科学院方向性项目,“973”项目
空间材料科学项目.
培养研究生情况: 已毕业博士5名。现有硕博连读生3名,博士生1名。
对热爱物理的年轻人永远虚位以待;但如你已经或还准备联系其他导师, 请选择其他导师!!!
鉴于本人各项指标皆乏善可陈,除非你确信自己数学、语文、物理功底扎实,物理系毕业,吃苦耐劳,聪明上进, 否则请绕行,谢谢。
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