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王岩国 简介
 
简 历: 男,1957年9月生,1982年毕业于四川大学物理系,1989年在中国科学院金属研究所获博士学位。1992年¾1994在挪威特隆赫姆大学物理系从事合作研究,1995年9月转入荷兰格罗宁根大学应用物理系和材料研究中心工作,1997年3月赴加拿大阿尔伯塔大学化学与材料工程系做博士后,1998年3月转赴美国西北大学材料科学与工程系做博士后。2001年在悉尼大学电子显微镜中心做访问研究工作。现任中国科学院物理研究所北京电子显微镜实验室研究员。
主要研究方向: 功能纳米材料的制备和显微结构表征,低维材料界面势场的测量及与物理性能的相互关系。
过去的主要工作
及获得的成果:
1.完成了磁性材料硅铁薄膜晶化过程中磁畴结构、各向异性场与波纹磁畴的波长测定,2.镧铜钼氧化物的阳离子有序结构以及氮化镓功能薄膜中位错分布和密度的测定。3.应用电子全息技术精确测定了24o[100> 钛酸锶孪晶界面的势场分布,建立了界面势场分布与重要物理性能之间的关系。4.建立了电子动力衍射计算材料界面势场分布的方法。5.制备了金属铜及具有成分调制结构的半导体/金属纳米线。已在国际著名的核心刊物上发表50多篇论文。
目前的研究课题及展望: 1.金属/氧化物复合材料、磁性多层膜界面显微结构和应力分布的研究。2. 应用电子全息方法与电子动力衍射理论计算相结合的方法表征低维材料界面势场分布。3.一维金属、半导体纳米线的制备和显微结构表征。希望通过这些研究,建立起材料显微结构与宏观物理性能之间的内在联系。
培养研究生情况: 硕士生一名,并合作指导博士一名。
联系电话: 010-82648009
E-mail: ygwang@blem.ac.cn
 
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